第55回高分子材料自由討論会＠ブリヂストン奥多摩園

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第55回高分子材料自由討論会に参加しました。D2植田が「ナノレオロジー原子間力顕微鏡によるtanδマッピング ―シリカ界面ゴム成分の周波数依存性―」、中嶋が「高分子ナノメカニクスの現状と展望」というタイトルで話題提供しました。